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年產(chǎn)50萬片功率半導(dǎo)體芯片項目工程特性表

[環(huán)境影響評價報告 - 資料分享] 發(fā)表于:2025-08-01 11:07:06
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前言
本文詳細(xì)列出了功率半導(dǎo)體芯片項目的工程特性表,包括項目基本情況、工程分析、主要原輔材料及能源消耗等內(nèi)容。
詳情

1. 項目基本情況

建設(shè)項目名稱 功率半導(dǎo)體芯片項目
項目代碼 2403-421024-04-05-431417
建設(shè)單位聯(lián)系人 王總
聯(lián)系方式 13814588866
建設(shè)地點 湖北省荊州市江陵縣郝穴鎮(zhèn)江陵大道118號
地理坐標(biāo) (112度 26分 24.605秒,30度 2分 35.175秒)
國民經(jīng)濟行業(yè)類別 C3972半導(dǎo)體分立器件制造
建設(shè)項目行業(yè)類別 三十六、計算機、通訊和其他電子設(shè)備制造業(yè)39-80電子器件制造397-使用有機溶劑的;有酸洗的
建設(shè)性質(zhì) 擴建
項目審批(核準(zhǔn)/備案)部門 江陵縣發(fā)展和改革局
項目審批(核準(zhǔn)/備案)文號 2403-421024-04-05-431417
總投資(萬元) 10000
環(huán)保投資(萬元) 110
環(huán)保投資占比(%) 1.10
施工工期 3個月
是否開工建設(shè)
用地(用海)面積(m2) 0

2. 工程分析

2.1 總體工程情況

項目擴建功率半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線,利用現(xiàn)有廠房空置場地進行建設(shè),不涉及新增用地。

2.2 主要生產(chǎn)設(shè)備

區(qū)域名稱 設(shè)備名稱 型號 數(shù)量(臺/套) 用途
清洗區(qū) 溝槽腐蝕機TVS NTNY-CW17-09 1 腐蝕清洗
清洗區(qū) 溝槽腐蝕機GPP NTNY-CW17-09 1 腐蝕清洗
清洗區(qū) 清洗機GPP YLWET-07 1 清洗
清洗區(qū) 去膠機A -- 1 清洗
清洗區(qū) 去膠機B -- 1 清洗
清洗區(qū) 焊接面蝕刻機 NTNY-CW17-09 2 腐蝕清洗
清洗區(qū) 清洗機TVS A -- 1 清洗
清洗區(qū) GPP 爐管清洗機 -- 1 清洗
清洗區(qū) 清洗機TVS B -- 1 清洗
清洗區(qū) 表面蝕刻機 JIS-ET-1000 1 腐蝕清洗
清洗區(qū) 涂硼臺 -- 2 涂硼
清洗區(qū) 烘箱/小 TS-881-015 4 烘烤
清洗區(qū) 涂鉑臺 -- 2 涂鉑
擴散區(qū) 擴散清洗機 -- 1 腐蝕清洗
擴散區(qū) 擴散爐管清洗機 -- 1 清洗
擴散區(qū) 鉑后清洗機 -- 1 腐蝕清洗
擴散區(qū) 分割清洗機 -- 1 清洗
擴散區(qū) 舟檔片清洗機 -- 1 清洗
擴散區(qū) 烘箱/大 TS-881-015 1 烘烤
光刻區(qū) 涂膠機 DDT88JA3 3 涂膠
光刻區(qū) 曝光機 BG403 5 曝光
光刻區(qū) 黃光烘箱 PHH-125D 3 烘烤
光刻區(qū) 自動曝光機 -- 1 曝光
光刻區(qū) 顯影機 -- 1 漂洗
擴散區(qū) 涂玻璃臺 -- 2 刮玻璃
擴散區(qū) 擴散爐 HDC-4380AH/4390A 18 擴散
測試區(qū) 探針臺 PT-501B/506B 21 測試
劃片區(qū) 激光劃片機 TH-4212/5212 11 劃片
吹砂區(qū) 吹砂機 -- 3 吹砂
蒸發(fā)區(qū) 蒸發(fā)臺 ESZ-R 2 表面蒸發(fā)

2.3 原輔材料及能源消耗

序號 原輔料名稱 包裝 含量/規(guī)格 形態(tài) 年耗量 單位 最大儲量① 存放位置 用途
1 功率半導(dǎo)體器件 500片/盒 4/5英寸 50萬 10萬 原料倉庫 原材料
2 乙基纖維素 500g/瓶 濃度97% 23 KG 10 化學(xué)品倉庫 玻璃鈍化
3 丁基卡必醇 450ml/瓶 濃度98% 115 L 31.5 化學(xué)品倉庫 玻璃鈍化
4 9:9:12:4 混合酸 1.83T/桶 硝酸70%,氫氟酸49%,硫酸,磷酸。 58 T 3.6 化學(xué)品倉庫 腐蝕清洗
5 三氧化二硼 500g/瓶 -- 23 KG 3 化學(xué)品倉庫 擴散
6 18:1:1 混合酸 4L/瓶 氫氟酸49%,硝酸70%,冰乙酸 3846 L 320 化學(xué)品倉庫 腐蝕清洗
7 鹽酸 4L/瓶 濃度36% 9231 L 320 化學(xué)品倉庫 腐蝕清洗
8 硫酸 4L/瓶 濃度98% 21538 L 720 化學(xué)品倉庫 腐蝕清洗
9 雙氧水 4L/瓶 濃度35% 11538 L 480 化學(xué)品倉庫 腐蝕清洗
10 氫氟酸 4L/瓶 濃度49% 9231 L 320 化學(xué)品倉庫 腐蝕清洗
11 硝酸 4L/瓶 濃度70% 6154 L 320 化學(xué)品倉庫 腐蝕清洗
12 綠碳化硅 25kg/袋 -- 11538 KG 500 原料倉庫 吹砂
13 紙源 500片/盒 磷、硼 307692 10000 原料倉庫 擴散
14 異丙醇 15kg/瓶 濃度99.8% 9231 KG 300 化學(xué)品倉庫 清洗
15 液氧 0.5m3/瓶 濃度99.99% 23 m3 3 指定區(qū) 擴散/鈍化
16 液氮 30m3/罐 濃度99.99% 231 m3 30 指定區(qū) 擴散/鈍化
17 乙二醇乙醚 4L/瓶 濃度99% 254 L 80 化學(xué)品倉庫 涂硼
18 哈磨粉 5LB/瓶 純堿、三聚磷酸鈉 769 LB 100 化學(xué)品倉庫 清洗
19 氯鉑酸 1g/瓶 37% 1385 g 100 化學(xué)品倉庫 鉑擴散
20 硝酸鋁 500g/瓶 / 3846 g 500 化學(xué)品倉庫 硼擴散
21 氨水 4L/瓶 26% 1538 L 320 化學(xué)品倉庫 清洗
22 鋁源 500g/瓶 99.999% 16154 g 5000 原料倉庫 蒸發(fā)
23 鈦源 500g/瓶 99.995% 1154 g 5000 原料倉庫 蒸發(fā)
24 銀源 500g/瓶 99.99% 8462 g 5000 原料倉庫 蒸發(fā)
25 無水乙醇 4L/瓶 / 77 L 20 化學(xué)品倉庫 清潔

3. 主要環(huán)境影響和保護措施

項目主要環(huán)境影響包括廢氣、廢水、噪聲和固體廢物等,將采取相應(yīng)的治理和防范措施,確保污染物達(dá)標(biāo)排放,滿足環(huán)保要求。

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